[发明专利]具有用于减小像差的可替换、可操纵的校正布置的光学系统有效
| 申请号： | 200780044525.3 | 申请日： | 2007-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN101548240A | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·泽尔特;彼得·迈耶;吉多·利姆巴赫;弗朗兹·索格;阿明·舍帕克;乌尔里克·韦伯;乌尔里克·洛林;德克·赫尔韦格;詹斯·库格勒;伯恩哈德·盖尔里奇;斯蒂芬·亨巴彻;伯恩哈德·格珀特;阿克赛尔·戈纳迈耶 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邱 军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备，包括用于减小像差的至少一个操纵器(14)，其中操纵器(14)包括至少一个光学元件(8)，该至少一个光学元件(8)由至少一个驱动器(13)操纵，并且其中该操纵器(14)连同驱动器(13)一起以可改变的方式形成。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 减小 替换 可操纵 校正 布置 光学系统 | ||
【主权项】：
1、一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，包括用于减小像差的至少一个操纵器(14)，其中操纵器(14)包括至少一个驱动器(13)和能够由驱动器(13)操纵的至少一个光学元件(8)，其特征在于该操纵器(14)以可改变的方式形成。
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