[发明专利]作为H3调节剂的4,5,6,7-四氢-噻吩并[3,2-C]吡啶衍生物无效
申请号: | 200780045060.3 | 申请日: | 2007-11-28 |
公开(公告)号: | CN101547926A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 陈力;韦恩·文·赖;马蒂亚斯·内特科文;奥里维耶·罗什;郑德烨 | 申请(专利权)人: | 霍夫曼-拉罗奇有限公司 |
主分类号: | C07D495/04 | 分类号: | C07D495/04;A61K31/4365;A61P3/04;A61P3/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 吴小明 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及式(I)的化合物及其药用盐,其中R1和R2如说明书和权利要求书中定义。所述化合物可用于治疗和/或预防与H3受体的调节相关的疾病。 | ||
搜索关键词: | 作为 h3 调节剂 噻吩 吡啶 衍生物 | ||
【主权项】:
1.通式I的化合物,其中R1 选自由下列组成的组:-CO-R3,其中R3选自由下列组成的组:低级烷基,低级环烷基烷基,其中所述环烷基环可以未被取代或被一个或两个独立地选自低级烷基的基团取代;和苯基,其中苯环可以未被取代或被一个或两个基团取代,所述基团独立地选自低级烷基、氰基、卤素、低级卤代烷基和低级烷氧基,-CO-NR4R5,其中R4和R5彼此独立地选自由下列组成的组:氢,低级烷基,低级烷氧基烷基,未取代的或被一个或两个独立地选自低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级卤代烷基的基团取代的苯基,和低级苯基烷基,其中苯基未被取代或被一个或两个独立地选自低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级卤代烷基的基团取代,或R4和R5与它们所连接的氮原子一起形成4-,5-,6-或7-元杂环,所述杂环任选地包含另外的选自氮、氧或硫的杂原子,亚磺酰基或磺酰基,所述杂环未被取代或被一个或两个独立地选自低级烷基、卤素、氰基、低级烷氧基和苯基的基团取代,其中苯基未被取代或被一个或两个独立地选自低级烷基、卤素和低级烷氧基的基团取代,和-SO2-R6,其中R6选自由下列组成的组:低级烷基,低级烷氧基烷基,低级环烷基烷基,其中所述环烷基环可以未被取代或被一个或两个独立地选自低级烷基、卤素和低级烷氧基的基团取代;和苯基,其中苯环可以未被取代或被一个或两个独立地选自低级烷基,氰基,卤素,低级卤代烷基和低级烷氧基的基团取代;R2 是选自下列的基团:和其中m 是0,1或2;n 是0,1或2;A 选自-CR11R11′-,O,S或-NR12;R7,R7’,R8,R8’,R9,R9′,R10,R10’,R11和R11′彼此独立地是氢或低级烷基;R12 是氢或低级烷基;p 是0,1或2;且R13 是低级烷基或环烷基;及其药用盐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司,未经霍夫曼-拉罗奇有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780045060.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:监测飞行器引擎来预测维护操作
- 下一篇:在过程图形上呈现现场用户的方法和布置