[发明专利]制备放射性同位素材料的靶体及其用途无效
| 申请号： | 200780045725.0 | 申请日： | 2007-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101558453A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 威廉·C·乌兰 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特公司 |
| 主分类号： | G21G1/04 | 分类号： | G21G1/04;G21G1/10;H05H6/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于从靶体(12)回收富集放射性同位素原料(14)的系统和方法。所述系统和方法能够在用高能粒子轰击所述靶体后较短的时间(如数小时)内回收所述原料，这极大地简化了所述靶体的化学处理，并且减少了这种处理的成本(如减少了对昂贵的长期储存的需要)。具体而言，将化学保护层(16)设置于所述靶体(12)的放射性同位素原料(14)和基材(18)之间。在用合适源(如粒子加速器)辐射所述靶体之后，经辐射的放射性同位素原料可被去除而不去除所述基材，因为所述化学保护层提供了保护。所述系统和方法还能够使使用者在单次轰击所述靶体中获得三种不同的放射性同位素，进一步减少了制备放射性同位素的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 放射性同位素 材料 及其 用途 | ||
【主权项】：
1.用于制备放射性同位素的靶体，所述靶体包括：包含冷却剂通道的基体；设置于该基体上的保护层；和设置于该基体上的放射性同位素原料，其中所述保护层设置于所述基体和所述放射性同位素原料之间。
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