[发明专利]辐射系统和光刻设备

摘要

本发明公开了一种辐射系统，用于产生限定一个光学轴线的辐射束。所述辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，该系统用于在该对电极之间产生等离子体以便在电极之间的等离子体中提供放电。辐射系统还包括用于捕获来自电极的碎片的碎片捕获遮蔽件。碎片捕获遮蔽件构造并配置成将电极和以相对于光学轴线的预定球面角提供的光的路线遮挡分开，并且在该光的路线中电极之间的中心区域提供孔。

主权项

1.一种用于在辐射空间中产生辐射束的辐射系统，所述辐射系统包括：等离子体产生的放电源，其构造并设置成产生极紫外辐射，所述放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，所述系统构造并配置成在所述成对电极之间产生放电，以便在所述电极之间产生箍缩等离子体；和碎片捕获遮蔽件，其构造并配置成从所述电极捕获碎片、将所述电极与辐射空间中设置的光的路线遮挡分开、以及在所述光的路线中所述电极之间的中心区域设置孔。