[发明专利]对混浊媒质的成像有效

专利信息
申请号: 200780047167.1 申请日: 2007-12-12
公开(公告)号: CN101563026A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: R·齐格勒;T·尼尔森 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;刘 红
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于对混浊媒质成像的成像系统包括照射所要成像的对象的辐射源。探测系统探测来自对象的辐射并且包括区分具有各个波长范围的辐射成分的分离模块。分析模块形成各个辐射成分的比较结果。根据各个辐射成分的比较结果重建图像数据集。该比较例如包括(i)高波长辐射成分与低波长辐射成分的水平之比,或者(ii)高波长辐射成分与探测到的辐射的水平的相对差,或者(iiii)高波长辐射成分与低波长辐射成分的水平的相对差。当在相应的造影剂浓度范围上该比较结果相对于其他波长范围更有益于其中一个波长范围时,获得了重建图像的良好对比度。因此,在比较中,波长范围之间的竞争使得该一个波长范围的强度(或者光子数)占优,使得该一个波长范围中的任何对比度不会受到对比度反转的影响。
搜索关键词: 混浊 媒质 成像
【主权项】:
1.一种用于对混浊媒质成像的成像系统,其包括:-辐射源,其照射所要成像的对象,-探测系统,其探测来自该对象的辐射并且具有区分具有各个波长范围的辐射成分的分离模块,-分析模块,其形成对各个辐射成分的比较结果,以及-重建单元,其存取对各个辐射成分的比较结果,并且根据该对各个辐射成分的比较结果重建图像数据集。
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