[发明专利]光学系统、具体而言微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜有效
| 申请号： | 200780047864.7 | 申请日： | 2007-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101568884A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 尼尔斯·迪克曼;达米安·菲奥尔卡 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/30;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邱 军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学系统，具体而言一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜，其包括至少一影响偏振的光学布置(200、400、550)，所述光学布置具有至少两个、光学活性材料的影响偏振的光学元件(210、220)，其中至少一所述影响偏振的元件(210、220)被可旋转地布置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 具体 而言 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 物镜 | ||
【主权项】：
1.一种光学系统，具体而言一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜，包括：至少一影响偏振的光学布置(200、400、550)，具有至少两个、光学活性材料的影响偏振的光学元件(210、220)，其中至少一所述影响偏振元件(210、220)可旋转地布置。
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