[发明专利]用于薄膜沉积装置的原料气体供应装置和残留气体处理装置及其方法

摘要

本发明涉及一种薄膜沉积装置，具体地说，涉及一种包括：原料气体供应装置，用于对薄膜沉积装置提供形成薄膜的金属材料；残留气体处理装置，在薄膜沉积后处理残留气体。本发明薄膜沉积装置的原料气体供应装置，包括：运输气体供应部，与薄膜沉积目标物隔一定间隔安装，向沉积薄膜的薄膜沉积用腔室提供用于运输金属材料的运输气体；原料气体产生部，储存上述金属材料，升华上述金属材料与上述运输气体混合；运输气体注入线，连接上述运输气体供应部和原料气体产生部，将运输气体和原料气体转送到上述薄膜沉积用腔室，具有用于将运输气体或原料气体维持在金属材料升华点以上的加热器。

主权项

1、一种薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其特征在于，包括：薄膜沉积用腔室；运输气体供应部，与薄膜沉积目标物隔一定间距安装，向沉积薄膜的薄膜沉积用腔室提供用于运输金属材料的运输气体；原料气体产生部，储存上述金属材料，升华上述金属材料使其与上述运输气体混合；运输气体注入线，连接上述运输气体供应部和原料气体产生部，将运输气体和原料气体传送到上述薄膜沉积用腔室，具有用于将运输气体或原料气体维持在升华点以上的加热器，与上述腔室连接的末端安装有用于阻断气体注入的阀门。