[发明专利]高分子电解质膜的制造方法

摘要

本发明提供不易产生厚度不均和皱褶、凹凸的高分子电解质膜的制造方法。该高分子电解质膜的制造方法具有膜形成工序(A)，使含离子性基团的高分子电解质的膜状物形成于支撑体上；酸处理工序(B)，使所述膜与含无机酸的酸性液接触从而将离子性基团转变为酸型；酸除去工序(C)，除去所述酸处理膜中的游离的酸；以及干燥工序(D)，将所述酸除去膜干燥，其中，在不将膜从支撑体剥离的情况下实施所述(B)～(D)的工序。优选膜形成工序(A)包括流延工序(A₁)，将含离子性基团的高分子电解质的溶剂溶液流延于支撑体上形成流延膜；干燥工序(A₂)，将所述流延膜干燥；以及脱溶剂工序(A₃)，将所述干燥膜用与所述含离子性基团的高分子电解质的溶剂混合的液体脱溶剂。

主权项

1.一种高分子电解质膜的制造方法，其特征在于，包括：膜形成工序(A)，使含离子性基团的高分子电解质的膜状物形成于支撑体上；酸处理工序(B)，使所述膜与含无机酸的酸性液接触从而将离子性基团转变为酸型；酸除去工序(C)，除去所述酸处理膜中的游离的酸；以及干燥工序(D)，将所述酸除去膜干燥，其中，在不将膜从支撑体剥离的情况下实施所述(B)～(D)的工序。