[发明专利]浮区熔化装置有效
| 申请号： | 200780049466.9 | 申请日： | 2007-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN101611177A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 进藤勇 | 申请（专利权）人： | 株式会社水晶系统 |
| 主分类号： | C30B13/00 | 分类号： | C30B13/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 马淑香 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种红外线集中加热式的浮区熔化装置，样品的熔化部处的周向温度梯度较小，其垂直方向的温度梯度陡峭，且能得到足够高的最高到达温度，能形成稳定的熔化状态。在将旋转椭圆面反射镜(2)相对地配置在正交轴上的四椭圆镜型的浮区熔化装置中，将旋转椭圆面反射镜(2)的离心率设为0.4～0.65，并将旋转椭圆面反射镜(2)的深度与开口部直径之比设为0.38～0.75。作为旋转椭圆面反射镜(2)，使用玻璃镜。另外，通过将旋转椭圆面反射镜(2)配置成从一个焦点到另一个焦点的直线朝下方倾斜，使被反射面反射的红外线从斜上方朝样品照射，能生长大口径的单晶。 | ||
| 搜索关键词： | 熔化 装置 | ||
【主权项】：
1.一种浮区熔化装置，是一种在以内表面作为反射面的形态相对配置在正交轴上的四个旋转椭圆面反射镜的一个焦点上设置有红外灯、通过使从所述反射面反射的红外线聚焦在另一个焦点上来加热样品的红外线集中加热式的浮区熔化装置，其特征在于，所述旋转椭圆面反射镜的离心率是0.40～0.65，且反射镜的深度与开口部直径之比是0.38～0.75。
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