[发明专利]氢精制方法、氢分离膜及氢精制装置无效
| 申请号： | 200780051214.X | 申请日： | 2007-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101610975A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 冈田英二;吉原纯;生驹太志;武政登;田山竜规;大塚健二 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C01B3/56 | 分类号： | C01B3/56;B01D53/22;B01D69/12;B01D71/02;C01B3/32 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种从除氢以外含有1％以上的选自水、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、氮中的至少一种成分的含氢气体中在保持较高氢穿透能力的同时高效地分离·精制氢的方法、用于该方法的氢分离膜及氢精制装置。特别是以使用使钯的微粒附着在钯合金膜的表面上的氢分离膜，从含有1％以上的选自水、一氧化碳、二氧化碳、甲烷及氮中的至少一种成分的含氢气体中高效地分离·精制氢为特征的氢精制方法、用于该方法的氢分离膜及氢精制装置。 | ||
| 搜索关键词： | 精制 方法 分离 装置 | ||
【主权项】：
1、一种氢精制方法，其特征在于，该方法包括使用氢分离膜，从含有1％以上的选自水、一氧化碳、二氧化碳、甲烷及氮中的至少一种成分的含氢气体中分离·精制氢，其中所述氢分离膜是通过电镀法、溅射法、或者在涂布含有钯化合物的溶液后进行溶剂的蒸发和钯的还原的方法，而使钯的微粒附着在钯合金膜的表面上的氢分离膜。
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