[发明专利]具有抗反射性能的硬掩模组合物及用其图案化材料的方法有效
| 申请号： | 200780052470.0 | 申请日： | 2007-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101641390A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 金旼秀;鱼东善;吴昌一;尹敬皓;邢敬熙;李镇国;金钟涉;田桓承;南伊纳;纳塔利娅·托克列娃 | 申请（专利权）人： | 第一毛织株式会社 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴贵明;张 英 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合于光刻，提供了良好的光学和机械性能，并且表现出高蚀刻选择性。此外，该硬掩模组合物可以容易地通过旋涂(spin-on)施加技术而施用。有利地，该硬掩模组合物可用于短波长光刻并具有最小的残留酸含量。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 性能 模组 图案 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由化学式1表示的含芳香环的聚合物：![]()
其中R1选自氢、羟基(-OH)、C1-C10烷基、C6-C10芳基、烯丙基和卤素，R2选自羟基(-OH)、氨基(-NH2)、-OR(R为C1-C10烷基或C6-C10芳基)和-NRR’(R和R’独立地为C1-C10烷基或C6-C10芳基)，R3选自：![]()
并且1≤n＜190。
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