[发明专利]排气单元,排气方法,和具有排气单元的半导体制造设备

摘要

本申请涉及排气单元，排气方法，和具有排气单元的半导体制造设备。提供了一种排气单元，该排气单元能够防止由于大气压力变化引起工艺室内的大的压力波动。该排气单元包括主排气管和作为部分旁路的辅排气管。翼片位于主排气管和辅排气管之间的下游开口处，并且控制从辅排气管流至主排气管的旁通气体的量。翼片的第一板和第二板枢轴地联接至在下游开口附近的主排气管，第一板与流过主排气管的气体相碰撞，第二板部分阻塞从辅排气管流回至主排气管的旁通气体。当气体通过主排气管路和辅排气管排出时，翼片被动地控制辅排气管由于大气压力波动而打开的量。

主权项

1.一种用于调节工艺室中的压力的排气单元，该排气单元包括：主排气管，该主排气管连接至所述工艺室，并且包括限定在其侧壁中的第二开口和第一开口中的至少其中之一；至少一个辅排气管，该辅排气管的一端连接至所述第一开口，并且另一端连接至所述第一开口下游的第二开口，以允许流过所述主排气管的一部分气体通过所述第一开口从所述主排气管分叉，并且通过所述第二开口再次进入所述主排气管；和调节构件，该调节构件构造成调节所述第二开口的打开比。