[发明专利]对于离子注入器的改进无效
| 申请号： | 200810002722.5 | 申请日： | 2008-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN101369509A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 埃里克·科拉尔特;迈克尔·约翰·金 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/08;H01L21/265 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及具有紧邻穿过离子注入器的离子束的路径的表面的部件。上述表面易于发生沉积，并且本发明解决与沉积材料的剥离相关的问题。本发明提供一种离子注入器部件，其具有至少部分地限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，其中，所述表面的至少一部分被粗糙化。所述表面的所述部分被粗糙化以提供表面特征，所述表面特征至少部分由所述表面的相邻部分的取向的急剧变化而限定。 | ||
| 搜索关键词： | 对于 离子 注入 改进 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入器部件，其具有至少部分地限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，其中，所述表面的至少一部分被粗糙化。
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