[发明专利]用于屏蔽弧光灯的一部分的盖子、弧光灯和光刻设备有效
| 申请号： | 200810002968.2 | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101220927A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 马赛尔·马塞基斯·西奥多·玛丽·戴里奇斯;亨瑞克斯·威尔海尔姆斯·玛丽安·范布艾尔;瑞恩·亚历山大·东米尼克斯·图森特;罗尔·玛腾·西蒙·诺普斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | F21V7/04 | 分类号： | F21V7/04;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王文生 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于屏蔽弧光灯的一部分以免受电磁辐射的盖子。所述盖子具有反射表面，所述反射表面由适用于反射电磁辐射的反射材料制成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 屏蔽 弧光灯 一部分 盖子 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于屏蔽弧光灯的一部分的盖子，所述盖子包括反射表面，所述反射表面用于防止或基本减轻灯的一部分对于电磁辐射的暴露。
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