[发明专利]光致酸生成剂、含它的光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法无效
| 申请号： | 200810003862.4 | 申请日： | 2008-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101231464A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 尹孝镇;权宁吉;金永虎;金导永;崔在喜;白世卿 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 戎志敏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 光致抗蚀剂组合物包含：约4％至约10重量％的光致抗蚀剂树脂；约0.1％至约0.5重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团；和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光致酸 生成 光致抗蚀剂 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有选自由下列化学式1、2、3和4表示的化合物中的锍盐阳离子基团和由下列化学式5表示且含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团，其中R1、R2、R3和R4独立地表示氢原子或含1至5个碳原子的烷基，n表示1至3的自然数，并且X表示选自含4至10个碳原子的环状基团、金刚烷基和含有氧原子的环庚基中的一个，<化学式1>![]()
<化学式2>![]()
<化学式3>![]()
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