[发明专利]酞菁化合物及其中间体的制备方法以及这些中间体化合物无效
| 申请号： | 200810004898.4 | 申请日： | 2004-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN101239943A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 立石桂一;矢吹嘉治 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07D209/48 | 分类号： | C07D209/48;C07D487/22;C07D209/00;C07D257/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种不仅在染料、颜料方面，且对于有机光导电材料、光记录材料、医药·农药等的功能性材料也是有用的酞菁化合物及其中间体的制备方法以及这些中间体化合物。由经过特定的反应过程得到的酞菁化合物和中间体的制备方法以及这些中间体化合物完成了本发明。 | ||
| 搜索关键词： | 化合物 及其 中间体 制备 方法 以及 这些 | ||
【主权项】：
1.以通式(IV)所示的取代的邻苯二甲酰亚胺化合物，通式(IV)![]()
式中，R表示取代或未取代的碳原子总数为1～20的烷基、取代或未取代的碳原子总数为3～20的环烷基、取代或未取代的碳原子总数为2～20的烯基，取代或未取代的碳原子总数为2～12的炔基、取代或未取代的碳原子总数为7～20的芳烷基、取代或未取代的碳原子总数为6～20的芳基、或者取代或未取代的碳原子总数为4～20的杂环基，并且R所表示的基团具有离子性亲水基作为取代基；n表示1～4的整数；A表示氢原子或金属原子。
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