[发明专利]存储装置有效

专利信息
申请号: 200810005166.7 申请日: 2008-01-23
公开(公告)号: CN101237029A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 吉住健辅;针马典子 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L45/00;H01L27/28;H01L27/24;G11C13/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沈昭坤
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种存储装置,包括第一导电层、第二导电层、夹在第一导电层与第二导电层之间的存储层。该存储层具有第一部分和第二部分,这些部分分别至少具有纳米粒子。该纳米粒子具有被有机薄膜覆盖的导电材料。所述第一部分接触于第一导电层及第二导电层,并且该第一部分的侧面被第二部分围绕。
搜索关键词: 存储 装置
【主权项】:
1.一种存储装置,包括:第一导电层;第二导电层;以及夹在所述第一导电层和所述第二导电层之间的存储层,其中,所述存储层具有第一部分和第二部分,这些部分分别至少包含具有导电材料且被有机薄膜覆盖的纳米粒子,并且,所述第一导电层通过所述第一部分电连接到所述第二导电层,并且,所述第一部分接触于所述第一导电层以及所述第二导电层,并且,所述第一部分的侧面被所述第二部分围绕。
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