[发明专利]具有用来将浆料保留在抛光垫构造上的凹槽的抛光垫有效
| 申请号： | 200810005414.8 | 申请日： | 2008-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN101234481A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | G·P·马尔多尼 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B37/04;H01L21/304;B24D13/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾敏 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种设计用来结合抛光介质使用的旋转化学机械抛光垫。所述抛光垫包括具有抛光面的抛光层，所述抛光面具有多个凹槽。所述多个凹槽中的每一个的至少一部分具有一定的形状和取向，所述形状和取向作为抛光介质在抛光垫使用过程中的流径的函数确定。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用来 浆料 留在 抛光 构造上 凹槽 | ||
【主权项】：
1.一种用来与抛光介质结合使用的抛光垫，其具有在使用过程中旋转抛光垫而得到的理想流径，所述抛光垫包括：(a)设计用来在抛光介质的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层，所述抛光层包括圆形抛光面，该抛光面在抛光过程中具有环形抛光轨迹；(b)形成于所述抛光层内的至少一个凹槽，其具有位于所述抛光轨迹内的正交部分，所述正交部分具有一定长度，沿整个长度成形，其沿正交部分与理想流体流径正交。
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