[发明专利]光学扫描装置和利用光学扫描装置的图像形成设备有效
| 申请号： | 200810005646.3 | 申请日： | 2008-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101251646A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 下村秀和 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/10 | 分类号： | G02B26/10;G03G15/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 魏小薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学扫描装置和利用光学扫描装置的图像形成设备。该光学扫描装置包括：聚光光学系统，用于聚集从光源装置发射的光束；偏转装置，用于以扫描方式偏转由聚光光学系统聚集的光束；以及成像光学系统，配置为将由偏转装置以扫描方式偏转的光束成像在待扫描表面上；偏转装置具有偏转表面，所述偏转表面可在主扫描截面内往复运动，从而以扫描方式偏转来自聚光光学系统的光束，其中，当偏转表面在主扫描截面内往复运动时，偏转表面接收能够引起关于副扫描方向不对称的变形的角加速度，并且其中，聚光光学系统将来自光源装置的光束聚集到偏转表面的一个区域中，所述区域位于偏转表面的关于副扫描方向的中心线的一侧，在所述一侧，副扫描方向上的偏转表面的不对称变形的量小于另一侧的所述不对称变形的量。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 扫描 装置 利用 图像 形成 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光学扫描装置，该光学扫描装置包括：聚光光学系统，其被配置为聚集从光源装置发射的光束；偏转装置，其被配置为以扫描方式偏转由所述聚光光学系统聚集的光束；以及成像光学系统，其被配置为将由所述偏转装置以扫描方式偏转的光束成像在待扫描表面上；其中，所述偏转装置具有偏转表面，所述偏转表面被配置为在主扫描截面内往复运动，并且以扫描方式偏转来自所述聚光光学系统的光束，其中，当所述偏转表面在主扫描截面内往复运动时，所述偏转表面接收能够引起关于副扫描方向不对称的其变形的角加速度，并且，其中，所述聚光光学系统被配置为将来自所述光源装置的光束聚集到所述偏转表面的一个区域中，所述区域位于所述偏转表面的关于副扫描方向的中心线的一侧，在所述一侧，副扫描方向上的所述偏转表面的不对称变形的量小于另一侧的所述不对称变形的量。
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