[发明专利]磁控溅射喷涂机器人示教轨迹优化控制方法无效
| 申请号： | 200810006921.3 | 申请日： | 2008-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN101224576A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 邓中亮;刘爱斌 | 申请（专利权）人： | 北京邮电大学 |
| 主分类号： | B25J9/16 | 分类号： | B25J9/16;B25J9/22;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100876*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁控溅射喷涂机器人示教轨迹优化控制方法，其特征在于，通过计算机将获得的示教轨迹反解成机器人各轴运动的数据，将该数据传输给控制系统，并通过控制系统控制机器人的运行，使得被机器人抓着的溅射靶按照示教轨迹行走。实验表明利用本发明可以对多种复杂的基片进行镀膜，并取得了良好的镀膜效果。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 喷涂 机器人 轨迹 优化 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.磁控溅射喷涂机器人示教轨迹优化控制方法，其特征在于，通过计算机将获得的示教轨迹反解成机器人各轴运动的数据，将该数据传输给控制系统，并通过控制系统控制机器人的运行，使得被机器人抓着的溅射靶按照示教轨迹行走。
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