[发明专利]用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的方法和系统有效
| 申请号： | 200810007789.8 | 申请日： | 2008-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101265568A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·K.·太尔西;约瑟夫·史密斯;马瑞斯·格瑞革涅斯 | 申请（专利权）人： | JDS尤尼弗思公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郑小粤 |
| 地址： | 美国加利福尼亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的方法和溅射沉积系统。溅射沉积系统包括由单个DC电源供电的多个靶阴极，每个靶阴极包括具有不同成分的靶材料。多个靶阴极被共溅射以将混合物组成的层沉积在基片上。调节多个靶阴极的操作参数可以控制复合折射率。适合的操作参数包括阴极功率、阴极电压、阴极电流、阴极架与基片的夹角，以及反应气体流率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 混合物 组成 具有 预定 折射率 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的溅射沉积系统，包括：真空室；直流DC电源；基片，其在所述真空室中；多个靶阴极，其在所述真空室中，其中，每个靶阴极包括具有不同成分的靶材料，其中，所述多个靶阴极仅由所述DC电源供电，以及其中，所述多个靶阴极被配置，以将它们共溅射从而在所述基片上沉积由混合物组成的层；以及控制器，其被配置来调节所述多个靶阴极的操作参数，以使所述层具有所述预定折射率。
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