[发明专利]连续性微透镜阵列、其制造方法及定义其的光掩模有效
| 申请号： | 200810008550.2 | 申请日： | 2008-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN101493535A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | 林淯琮;吴心平;高弘昭;王铭义 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;H01L33/00;H01L27/148;G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种连续性微透镜阵列、其制造方法及定义其的光掩模，所述微透镜阵列包括相连的多个微透镜，其中每一个微透镜在其与相邻的微透镜相连处以上的各高度具有大致呈圆形的等高线，且在与相邻的微透镜抵接相连处的各高度的等高线轮廓大致呈部分圆形。在此连续性微透镜阵列中，不同位置上的微透镜的曲面形状可因入射光角度的不同而调整。 | ||
| 搜索关键词： | 连续性 透镜 阵列 制造 方法 定义 光掩模 | ||
【主权项】：
1.一种连续性微透镜阵列，包括呈连续状的多个微透镜，其中每一个微透镜在其与相邻的微透镜相连处以上的各高度的等高线轮廓大致呈圆形，且在与相邻的微透镜抵接相连处的各高度的等高线轮廓大致呈部分圆形。
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