[发明专利]衬底薄化设备、方法和组件无效
| 申请号： | 200810008769.2 | 申请日： | 2008-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN101412587A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 李承郁;李义玉 | 申请（专利权）人： | 宇进先行技术株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种衬底薄化设备和方法，所述设备包括：室，将待蚀刻的衬底容纳在其中；蚀刻剂入口和蚀刻剂出口，相互分离，设置在所述室中；蚀刻剂存储箱，所述蚀刻剂存储箱与蚀刻剂入口和蚀刻剂出口相通，其中所述待蚀刻的衬底被浸渍，并且被供给到所述室中的蚀刻剂蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 设备 方法 组件 | ||
【主权项】：
1. 一种衬底薄化设备，包括：室，所述室将待蚀刻的衬底容纳于其中；蚀刻剂入口和蚀刻剂出口，所述蚀刻剂入口和蚀刻剂出口相互分离，且设置于所述室中；蚀刻剂存储箱，所述蚀刻剂存储箱与蚀刻剂入口和蚀刻剂出口相通，其中，所述待蚀刻的衬底被浸渍在供给到所述室的蚀刻剂中，并且被供给到所述室中的蚀刻剂蚀刻。
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