[发明专利]一种用于光掩模的护罩以及用于使用光掩模的方法无效
| 申请号： | 200810008823.3 | 申请日： | 2008-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101236361A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | T·A·布伦纳;M·S·希布斯 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;杨晓光 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光掩模的护罩以及用于使用光掩模的方法。提供了一种在半导体光刻期间保护光掩模免受颗粒沾污的光学护罩，所述光学护罩具有增强的透射和操作性能。所述护罩利用透明聚合物和透明无机层的交替层形成具有高透射性能和高强度的护罩。在优选的护罩中，提供了具有夹在两聚合物层之间的透明无机层的三层的护罩。还提供了具有为聚合物层的外层和中间层以及无机材料的内层的五层的护罩。优选的聚合物层是全氟化聚合物例如Teflon以及优选的无机材料是二氧化硅。本发明的护罩对于高至反正弦0.45的入射光角度提供了大于0.99的光透射。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光掩模 护罩 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光掩模的护罩，其包括透明聚合物层和透明无机层的交替层，其中所述护罩具有至少三个层，外层是所述透明聚合物并且所述聚合物层具有比所述无机层小的折射率。
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