[发明专利]一种高透氢选择性金属钯复合膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 200810013153.4 申请日: 2008-09-10
公开(公告)号: CN101670245A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 徐恒泳;唐春华;李春林;葛庆杰 申请(专利权)人: 徐恒泳;唐春华;李春林;葛庆杰
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D69/12;C23C18/32
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 马 驰;周秀梅
地址: 116023*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种高透氢选择性金属钯复合膜的制备方法,首先通过化学镀在多孔支撑体的表面镀钯使其表面小孔得到封堵,然后再以负载钯的粒子填入到表面大孔或缺陷中进行修饰,最后进一步采用化学镀形成高透氢选择性金属钯复合膜。所述负载钯的粒子可以是负载型钯/金属氧化物,具体地,可以是Pd/Al2O3,Pd/ZrO2,Pd/CeO2,Pd/TiO2,Pd/SiO2中的一种或几种粒子。由于支撑体的表面大孔或缺陷被负载钯的粒子填充,负载钯的粒子不仅提供了钯膜形成的基础,而且提供了化学镀的活性中心,从而使得原本难以形成钯膜的大孔或缺陷,在得到负载钯的粒子修饰后容易形成钯膜。通过本发明制备的金属钯复合膜具有高的透氢选择性。
搜索关键词: 一种 高透氢 选择性 金属 复合 制备 方法
【主权项】:
1.一种高透氢选择性金属钯复合膜的制备方法,其特征在于:1)首先通过化学镀在多孔支撑体的表面镀钯使其表面小孔得到封堵;2)然后再以负载钯的粒子填入到表面大孔或缺陷中进行修饰;3)最后采用化学镀形成高透氢选择性金属钯复合膜。
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