[发明专利]二氧化钛纳米孔阵列薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200810020618.9 | 申请日： | 2008-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN101503211A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 金震;费广涛;庄重 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C01G23/047 | 分类号： | C01G23/047;B01J21/06 |
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| 地址： | 230031*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二氧化钛纳米孔阵列薄膜及其制备方法。薄膜中的孔为有序通孔阵列，其通孔直径为15～130nm、孔间距为25～200nm、孔隙率为30～40％，薄膜的厚度为10～1000nm；方法步骤为，第一步，使用二次氧化法得到孔直径为20～150nm的多孔氧化铝模板；第二步，先使用无水乙醇、冰醋酸、钛酸四丁酯和水配制前驱体溶液，再用硝酸调节其pH值至2～3后向其中加入聚乙二醇而获得前驱体溶胶；第三步，先将前驱体溶胶涂覆于多孔氧化铝模板上，再对其保温干燥，重复涂覆、干燥的过程至少一次，接着，对涂覆有溶胶的氧化铝模板进行退火后，将其置于强碱溶液中腐蚀掉多孔氧化铝模板，制得二氧化钛纳米孔阵列薄膜。它可广泛应用于传感器、催化、光催化及光子晶体等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 纳米 阵列 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种二氧化钛纳米孔阵列薄膜，包括二氧化钛，其特征在于所述二氧化钛呈多孔薄膜状，所述多孔薄膜中的孔为有序通孔阵列，所述有序通孔阵列的孔直径为15～130nm、孔间距为25～200nm、孔隙率为30～40％，所述薄膜的厚度为10～1000nm。
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