[发明专利]一种局部加热化学气相沉积装置及方法无效
申请号: | 200810020872.9 | 申请日: | 2008-08-05 |
公开(公告)号: | CN101323947A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 张晓兵;王琦龙;雷威;娄朝刚 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/455 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 叶连生 |
地址: | 211109江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 局部加热化学气相沉积装置及方法主要采用电热丝和磁感应线圈加热器在耐高温金属/非金属基板上局部直接加热,以快速反应生成纳米和薄膜材料,该装置在反应室(1)内的底部设有隔热支架(12),在隔热支架(12)上设置加热器(2),在加热器(2)上设置基板(3),在反应室(1)的两侧分别设有反应气体输入通道(4)、气体导出通道(5)。该方法无需加热整个反应室,可在金属/非金属基板上局部直接加热反应生成纳米和薄膜材料;在化学气相反应室内,电热丝加热器或磁感应线圈加热器对基板进行局部加热,当基板温度达到所需反应温度,在反应气氛及催化剂作用下,在其表面激活气相沉积反应并生成纳米或薄膜材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 局部 加热 化学 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种局部加热化学气相沉积装置,其特征在于:该装置包括反应室(1)、加热器(2)、基板(3)、反应气体输入通道(4)、气体导出通道(5)、加热器电极(6)、隔热支架(12);其中,在反应室(1)内的底部设有隔热支架(12),在隔热支架(12)上设置加热器(2),在加热器(2)上设置基板(3),在反应室(1)的两侧分别设有反应气体输入通道(4)、气体导出通道(5)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的