[发明专利]监控光阻涂布量变异之方法及其装置无效
| 申请号： | 200810027516.X | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101320214A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 袁渊杰;陈尧德 | 申请（专利权）人： | 深超光电（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 东莞市中正知识产权事务所 | 代理人： | 侯来旺 |
| 地址： | 518108广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种监控光阻涂布量变异之方法及其装置，其是在一半导体基板上涂布光阻后，利用一侦测装置侦测光阻中所含之溶剂水气，利用溶剂水气之剂量和溶剂水气之剂量与光阻的比例关是可得知光阻量，此方法能够有效控制光阻涂布量，使曝光显影制程异常状况降低，以提升产品量率及质量。 | ||
| 搜索关键词： | 监控 光阻涂布量 变异 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种监控光阻涂布量变异之方法，该方法包含下列步骤：(A)提供一基板，并在该基板上形成一层光阻；(B)将该光阻中的溶剂水气抽至第一容置槽中；(C)控制该第一容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶剂液体；(D)抽取该溶剂液体，并检测该溶剂液体之剂量；(E)藉由该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关是得知该光阻量；一种监控光阻涂布量变异之装置，包含：一腔室，其是用来放置一基板，并在该基板上形成一层光阻；一第一容置槽，其是连接该腔室，并将该光阻中的溶剂水气抽至该第一容置槽中，控制该第一容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶剂液体；一检测装置，其是连接该第一容置槽；以及一第二容置槽，其是连接该检测装置，先将该溶剂液体抽至该检测装置中，再从该检测装置将该溶剂液体抽至该第二容置槽中，藉由该检测装置显示的该溶剂液体之剂量，和该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关是可得知该光阻量。
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