[发明专利]一种高熔体强度复合隔离膜及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 200810032279.6 申请日: 2008-01-04
公开(公告)号: CN101222034A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 雷彩红;植志飞 申请(专利权)人: 深圳市富易达电子科技有限公司
主分类号: H01M2/16 分类号: H01M2/16;H01M2/14;C08J5/22;C08J5/18
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 代理人: 解文霞
地址: 518078广东省深圳市高*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种电池用聚烯烃隔离膜。本发明所说的高熔体强度复合隔离膜,为B/A两层或B/A/B三层结构的微孔膜,其中A层为聚乙烯或乙烯与5~50%其它烯烃的共聚物膜,或两者的混合物膜;B层为丙烯与0.1~10%其他烯烃的共聚物膜。本发明的贡献在于在制作聚烯烃复合微孔隔离膜的配方中引入提供低的闭孔温度的聚合物A和提供高破膜温度、高熔体强度的聚合物B,从而获得了具有低闭孔温度、高破膜温度、高熔体强度、高度使用安全性的隔离膜。
搜索关键词: 一种 高熔体 强度 复合 隔离 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种高熔体强度复合隔离膜,为B/A两层或B/A/B三层结构的微孔膜,其中A层为聚乙烯或乙烯与5~50%其它烯烃的共聚物膜,或两者的混合物膜;B层为丙烯与0.1~10%其他烯烃的共聚物膜。
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