[发明专利]全反射投影光学系统有效
| 申请号： | 200810033054.2 | 申请日： | 2008-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101221280A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 朱立荣;储兆祥 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种全反射投影光学系统，以利用成像光线将位于物镜物平面内的图案投射到物镜像平面内，其包括位于物面之后该成像光线依次经过的第一至第四反射镜，其中该四面反射镜构成双远心投影物镜结构，即孔径光阑位于该第二反射镜上并关于光轴旋转对称，该第二反射镜位于第一反射镜焦点位置，并且该第三反射镜和第四反射镜将该孔径光阑的像成在像方无限远处。因而，本发明的物方主光线和像方主光线均与光轴平行，有利于减小畸变，扩大视场并且系统结构合理。 | ||
| 搜索关键词： | 全反射 投影 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种全反射投影光学系统，以利用成像光线将位于物镜物平面内的图案投射到物镜像平面内，其包括位于物面之后该成像光线依次经过的第一至第四反射镜，其特征在于：该第一至第四反射镜构成双远心投影物镜结构，物方主光线和像方主光线均与光轴平行，孔径光阑位于该第二反射镜上并关于光轴旋转对称，该第二反射镜位于第一反射镜焦点位置，并且该第三反射镜和第四反射镜将该孔径光阑的像成在像方无限远处。
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