[发明专利]一种降低碲镉汞光伏器件离子注入损伤影响的方法无效
申请号: | 200810033428.0 | 申请日: | 2008-02-01 |
公开(公告)号: | CN101226971A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 乔辉;周文洪;叶振华;蒋科;贾嘉;李向阳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种降低碲镉汞光伏器件离子注入损伤影响的方法。该方法是对离子注入后的碲镉汞样品进行光刻定义出氢离子处理区域,然后将样品置于氢离子氛围中进行处理;氢离子处理区域大小的确定是通过变面积方法来确定,自初始定义的离子注入区域大小开始逐渐扩大氢离子处理区域,对经过不同区域氢离子处理的碲镉汞样品进行电流-电压曲线测量,通过观察反向偏压下暗电流的增大现象来确定氢离子处理区域的大小。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 碲镉汞光伏 器件 离子 注入 损伤 影响 方法 | ||
【主权项】:
1.一种降低碲镉汞光伏器件离子注入损伤影响的方法,它采用氢离子对器件进行表面钝化处理,其特征在于:在进行氢离子表面钝化处理时,器件表面有一层保护P型区的光刻胶层(106)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的