[发明专利]一种化学机械抛光液无效
申请号: | 200810035594.4 | 申请日: | 2008-04-03 |
公开(公告)号: | CN101550319A | 公开(公告)日: | 2009-10-07 |
发明(设计)人: | 徐春 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/18 | 分类号: | C09G1/18;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒、氧化剂和水,其还含有下列表面摩擦调节剂中的一种或多种:水溶性多聚脂肪链类聚合物、水溶性醇类、水溶性醚类和水溶性纤维素类。本发明的抛光液可降低表面磨擦系数,减少抛光基底表面的缺陷(划伤、腐蚀和表面颗粒等)。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
1.一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒、氧化剂、络合剂和水,其特征在于:其还含有下列表面摩擦调节剂中的一种或多种:水溶性多聚脂肪链类聚合物、水溶性醇类、水溶性醚类和水溶性纤维素类。
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