[发明专利]一种控制掩模版CD值的清洗方法

摘要

本发明提供一种控制掩模版CD值的清洗方法，它包括以下步骤：1.得出掩模版CD值随第二次硫酸清洗时间变化的改变幅度以及随双氧水注入量变化的改变幅度；2.采集掩模版CD数据，根据掩模版CD值超出预期制定CD值范围的幅度依据步骤1确定第二次硫酸清洗时间，及/或双氧水注入量；3.根据步骤2确定的第二次硫酸清洗时间，及/或双氧水注入量对掩模版清洗；4.再采集掩模版上CD值，判断CD值是否预期制定范围内；是，则清洗完成；否，则返回步骤2。本发明方法通过有效调整第二次硫酸清洗时间以及双氧水注入量来达到控制掩模版CD值的目的，解决CD值不符合要求的掩模版报废的问题。

主权项

1、一种控制掩模版CD值的清洗方法，采用硫酸和双氧水对掩模版进行两次清洗，其特征在于，它包括以下步骤：步骤1：保持两次硫酸的温度、第一次清洗时间以及两次双氧水注入量恒定，采集不同第二次硫酸清洗时间对应掩模版上CD值改变幅度的数据；保持两次硫酸温度和清洗时间恒定，采集不同双氧水注入量对应掩模版上CD值改变幅度的数据；步骤2：采集掩模版上CD值超出预期制定范围幅度的数据，依据步骤1中得出的掩模版上CD值随硫酸清洗时间变化而改变的幅度数据来确定第二次硫酸清洗时间，及/或依据步骤1中得出的掩模版上CD值随双氧水注入量变化而改变的幅度数据来确定双氧水的用量；步骤3：依据步骤2确定的第二次硫酸清洗时间，及/或确定的双氧水注入量对所述掩模版进行清洗；步骤4：再次采集掩模版上CD值，若采集的CD值在预期制定范围内，掩模版清洗完毕；若采集的CD值不在预期制定范围内，返回步骤2。