[发明专利]一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途有效
| 申请号： | 200810038309.4 | 申请日： | 2008-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101591509A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/00;C12N9/08;C23F3/00 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途，该抛光浆料含有研磨颗粒、氧化剂和载体，其中还含有酶。本发明的抛光浆料通过酶的作用增加金属的绝对去除速率，使缺陷、划伤、粘污和其它残留明显下降，从而降低衬底表面污染物；并且其在平坦化过程中具有较小的对介电质的相对去除速率选择比，可以防止金属平坦化过程中产生的介电质侵蚀，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 金属 化学 机械抛光 抛光 浆料 及其 用途 | ||
【主权项】：
1、一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料，含有氧化剂、研磨颗粒和载体，其特征在于，还含有酶。
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