[发明专利]抑制金属焊盘腐蚀的方法有效
申请号: | 200810041881.6 | 申请日: | 2008-08-19 |
公开(公告)号: | CN101654774A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | 虞勤琴;段淑卿;李明;务林凤 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/52;C23F4/00;C23F17/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种抑制金属焊盘腐蚀的方法,该金属焊盘为铝和铜的合金,此方法用于抑制制作在芯片上的金属焊盘在清洗环境中因原电池效应导致的腐蚀。它包括以下步骤:步骤1:在金属焊盘上形成氮化钛层;步骤2:将步骤1形成的氮化钛层在金属焊盘上保留预设时间后,去除金属焊盘上的氮化钛层。本发明通过形成氮化钛层和去除氮化钛层使少量氮化钛扩散至金属焊盘,抑制金属焊盘中铜从铝的晶界析出,从而抑制金属焊盘因原电池效应导致的腐蚀。本发明的抑制金属焊盘腐蚀的方法可有效解决因芯片上金属焊盘腐蚀导致的打线失效率增大及封装良率降低的问题。 | ||
搜索关键词: | 抑制 金属 腐蚀 方法 | ||
【主权项】:
1、抑制金属焊盘腐蚀的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:在金属焊盘上形成氮化钛层;步骤2:将所述氮化钛层在金属焊盘上保留预设时间后,去除氮化钛层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的