[发明专利]光刻照明装置及照明方法有效
| 申请号： | 200810042099.6 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101364048A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 郭勇 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于空间光调制器的光刻照明装置及照明方法，采用SLM(液晶空间光调制器)来衍射产生各种照明光瞳形貌。每个像素对光波相位的调制可通过寻址电压来进行控制，并且具有可编程控制的特点，可以利用优化算法，优化设计SLM的相位值来产生任意的照明光瞳形貌。无需针对不同的照明模式来离线设计衍射光学元件，无需设置机械转盘，操作灵活，只需计算机编程进行在线控制，具有较高的响应速度，提高了产率。本发明可以提供更多的照明光瞳形貌，满足了一些特殊光刻线条的需要。本发明可灵活改变入射光波的偏振方向，在具有较大数值孔径的浸液光刻系统中可提供偏振照明。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 照明 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻照明装置，按光束传播的方向依次包括：光源系统，用以产生照射光束；空间光调制系统，包括空间光调制器和控制设备；匀光系统，用于控制照射光束；掩模；其特征在于：所述光源系统发出照射光束，经过所述空间光调制器、匀光系统，照射所述掩模。
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