[发明专利]光刻机透镜像差的检测装置及其方法有效
申请号: | 200810043651.3 | 申请日: | 2008-07-21 |
公开(公告)号: | CN101634808A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 王雷 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾继光 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻机透镜像差的检测方法,包括:第1步,开启入射光发生装置,入射光照射到光栅上,通过光栅的衍射光或反射光照射到透镜上,通过透镜的折射光照射到硅片平台上;第2步,调整所述硅片平台和所述透镜的距离、位置,直至所述折射光在所述硅片平台上形成焦点;第3步,所述硅片平台上集成的检测器测量所述焦点的位置、形状、大小和焦距并判断是否符合要求;第4步,沿X轴、Y轴和/或Z轴转动所述光栅,使所述衍射光或反射光照射到所述透镜的不同位置,重复第1步至第4步。本发明还公开了与上述方法对应的检测装置,本发明可实现自动检测、监控光刻机透镜像差,对于提高产品良品率,设备的利用效率都有帮助。 | ||
搜索关键词: | 光刻 透镜 检测 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机透镜像差检测装置,其特征是:所述装置包括:一入射光发生装置,发射入射光;一成像透镜,选取所述光刻机的主透镜;一光栅和一硅片平台,分别放置在所述透镜的光路两侧;一检测器,集成在所述硅片平台上,测量通过所述透镜的折射光在所述硅片平台上形成的焦点的位置、形状、大小和焦距。
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