[发明专利]掩模板无效
| 申请号： | 200810043706.0 | 申请日： | 2008-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN101650525A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 蒋顺;常曙光;马骏;袁剑峰;王志鹏;荆常营 | 申请（专利权）人： | 上海天马微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;H01L21/84 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201201上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩模板，该掩模板上设置两个或两个以上不同的掩模图形，其中，所述两个或两个以上不同的掩模图形为用于同一液晶显示面板产品的不同工序的掩模图形。通过将形成阵列基板的图案化层所需要的不同掩模图形布置在一张掩模板上的结构设计，并通过该掩模板形成液晶显示面板的阵列基板的所有图案化层，在不增加工艺的同时，使得在液晶显示装置的阵列基板在开发过程的成本降低。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板，其上设置两个或两个以上不同的掩模图形，其中，所述两个或两个以上不同的掩模图形为用于同一液晶显示面板产品的不同工序的掩模图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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