[发明专利]三氯氢硅生产中尾气的回收利用方法有效
申请号: | 200810044477.4 | 申请日: | 2008-05-30 |
公开(公告)号: | CN101569817A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 侯于先;罗秋生;刘忠文;许峰 | 申请(专利权)人: | 中蓝晨光化工研究院有限公司 |
主分类号: | B01D53/14 | 分类号: | B01D53/14;B01D61/00;C01B33/107;B01D3/14 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 赵 丽 |
地址: | 610041四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及尾气回收利用的一种工艺,具体为三氯氢硅生产过程中尾气的回收利用方法,包括初步吸收处理、重吸收处理、氢气膜分离、解析四个步骤,本发明的主要特点在于利用系统自身的副产品SiCl4作吸收剂吸收尾气中的SiHCl3和SiCl4以及采用稀盐酸除去尾气中残留的SiCl4。分离过程中不引入其他杂质即可达到尾气分离的目的。尾气中的三氯氢硅和四氯化硅采用三氯氢硅合成副产物四氯化硅进行吸收,而不采用其他吸收液科避免带来其他杂质,二级吸收中四氯化硅和谁反应产生的氯化氢通尾气中原有的氯化氢一道被吸收成浓盐酸,再解析后回收利用,提高了原料的率用率,经济效益显著。 | ||
搜索关键词: | 三氯氢硅 生产 尾气 回收 利用 方法 | ||
【主权项】:
1、一种三氯氢硅生产过程中尾气的回收利用方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:A、初步吸收处理:将流化床反应器生产过程中合成工段的合成尾气(包括HCl、H2、SiHCl3、SiCl4、N2)送入一级吸收塔,吸收液为SiCl4经冷凝后从塔顶送入,SiCl4液体与从塔底部上升的合成尾气在塔内充分接触,除去尾气中的大部分SiHCl3气体;B、重吸收处理:将从一级吸收塔塔顶出来的尾气(包括、H2、残余SiHCl3、残余SiCl4、N2)送入二级吸收塔,二级吸收塔采用稀盐酸作吸收液吸收气体中的HCl气体形成浓盐酸,同时,气体中残留的SiCl4、SiHCl3和水反应生成HCl和SiO2,生成的HCl气体被吸收成浓盐酸,SiO2移出吸收塔去三废回收,未被吸收的剩余N2和H2从塔顶排出;C、氢气膜分离:从二级吸收塔塔顶出来的氢气和氮气进入氢气膜分离器,膜分离器的非渗透器N2放空,氢气则返回氯化氢合成炉回收利用;D、解析:将二级吸收塔底出来的浓盐酸送往解析塔进行解析,解析塔采用蒸汽加热,从解析塔顶部出来的氯化氢气体作为原料送往三氯氢硅合成工段,塔釜出来的稀盐酸则用作二级吸收塔的吸收液。
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