[发明专利]一种强取向双轴织构的镍-铜金属基带层的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810044501.4 申请日: 2008-04-01
公开(公告)号: CN101250705A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 郑果;蒲明华;刘见芬;赵勇;王贺龙 申请(专利权)人: 西南交通大学
主分类号: C23F17/00 分类号: C23F17/00;C22F1/08;C25F3/22;C25D3/12;B08B3/12
代理公司: 成都博通专利事务所 代理人: 陈树明
地址: 610031四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种强取向双轴织构的镍-铜金属基带层的制备方法,其具体作法是:a.退火:将铜片放入管式炉中,通入氢氩混合气体,升温至590-610℃,保温2小时左右,自然冷却;b.抛光:按三氧化铬18-23g/L,85%磷酸940-960ml/L,95-98%硫酸40-60ml/L混合成抛光液;在抛光液中以退火后的铜片为阳极,铝片为阴极,以200-400mA的电流进行2-5分钟的抛光;c.电镀:按硫酸镍95-110g/L,氯化镍8-15g/L,硼酸25-30g/L配制去离子水溶液的电镀液;将抛光后的铜片作阴极,镍片作阳极电镀5-15分钟,电流10-50mA。该方法制作工艺简单,设备简单,成本低;操作控制容易,且极易控制镀层的厚度和物相取向;易于大规模制备生产;环保,不产生有害环境的污染物,节能。
搜索关键词: 一种 取向 双轴织构 金属 基带 制备 方法
【主权项】:
1. 一种强取向双轴织构的镍-铜金属基带层的制备方法,其具体作法是:a、退火:将铜片放入管式炉中,并通入体积比重为5%氢气、95%氩气组成的氢氩混合气体,按100-200℃/h的升温速率升至590-610℃,保温2小时左右,然后自然冷却;b、抛光:按三氧化铬18-23g/L,85%磷酸940-960ml/L,95-98%硫酸40-60ml/L混合均匀,配制成抛光液;再在抛光液中以a步处理后的铜片为阳极,其他活性较好的金属如铝、铜等金属为阴极,以200-400mA的电流进行电化学抛光,抛光时间2-5分钟;c、电镀:按硫酸镍95-110g/L,氯化镍8-15g/L,硼酸25-30g/L的比例,配制成去离子水溶液,形成电镀液;将b步抛光处理后的铜片作阴极,镍片作阳极进行电镀,电镀时间5-15分钟,电流10-50mA。
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