[发明专利]一种DLC红外抗反射保护膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810045240.8 申请日: 2008-01-23
公开(公告)号: CN101464528A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 黄宁康;代海洋;陈剑瑄 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/54
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610064四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种DLC红外抗反射保护膜及其制备方法。所说的红外抗反射保护膜是在较宽的红外波段具有抗反射效果,同时使镀膜后的光学元件具有耐磨抗蚀的能力。本发明的红外抗反射保护膜,是在ZnSe(1)上制备双层膜,第一层高折射率薄膜(2)的折射率n1为1.8~2.5,厚度d1在0.25λ/n1左右范围内;第二层低折射率薄膜(3)的折射率n2至少比第一层薄膜的折射率n1小0.1,并且其厚度d2在0.25λ/n2左右范围内(其中λ是红外抗反射膜的抗反射的中心波长)。制备方法是采用非平衡中频或射频磁控溅射法,以石墨为靶源,碳氢化合物和Ar的混合气体或纯Ar作为辅助放电气体,在红外透明基体上可双面或单面沉积类金刚石(DLC)抗反射膜。通过沉积参数的控制制备出折射率不同的两层DLC薄膜,通过时间的控制得到每层薄膜所需要的厚度。本发明方法薄膜沉积参数控制简便,各沉积参数之间干扰少,抗反射效果及耐磨抗蚀性能较好。
搜索关键词: 一种 dlc 红外 反射 保护膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1. 一种DLC红外抗反射保护膜,所述DLC红外抗反射保护膜成膜于ZnSe的入射面或者入射面和出射面上,以降低入射光线的反射光量,所述红外抗反射保护膜的特征在于,其具有不同折射率的双层薄膜层的结构,两层薄膜材料均为类金刚石(DLC)材料。
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