[发明专利]一种DLC红外抗反射保护膜及其制备方法无效
申请号: | 200810045240.8 | 申请日: | 2008-01-23 |
公开(公告)号: | CN101464528A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
发明(设计)人: | 黄宁康;代海洋;陈剑瑄 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610064四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种DLC红外抗反射保护膜及其制备方法。所说的红外抗反射保护膜是在较宽的红外波段具有抗反射效果,同时使镀膜后的光学元件具有耐磨抗蚀的能力。本发明的红外抗反射保护膜,是在ZnSe(1)上制备双层膜,第一层高折射率薄膜(2)的折射率n1为1.8~2.5,厚度d1在0.25λ/n1左右范围内;第二层低折射率薄膜(3)的折射率n2至少比第一层薄膜的折射率n1小0.1,并且其厚度d2在0.25λ/n2左右范围内(其中λ是红外抗反射膜的抗反射的中心波长)。制备方法是采用非平衡中频或射频磁控溅射法,以石墨为靶源,碳氢化合物和Ar的混合气体或纯Ar作为辅助放电气体,在红外透明基体上可双面或单面沉积类金刚石(DLC)抗反射膜。通过沉积参数的控制制备出折射率不同的两层DLC薄膜,通过时间的控制得到每层薄膜所需要的厚度。本发明方法薄膜沉积参数控制简便,各沉积参数之间干扰少,抗反射效果及耐磨抗蚀性能较好。 | ||
搜索关键词: | 一种 dlc 红外 反射 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种DLC红外抗反射保护膜,所述DLC红外抗反射保护膜成膜于ZnSe的入射面或者入射面和出射面上,以降低入射光线的反射光量,所述红外抗反射保护膜的特征在于,其具有不同折射率的双层薄膜层的结构,两层薄膜材料均为类金刚石(DLC)材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学,未经四川大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810045240.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。