[发明专利]一种综合孔径辐射计成像校正方法无效

专利信息
申请号: 200810047372.4 申请日: 2008-04-18
公开(公告)号: CN101261319A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 李青侠;陈柯;陈良兵;郭伟;胡飞;朱耀庭;何方敏;董健 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40;G01S13/90
代理公司: 华中科技大学专利中心 代理人: 曹葆青
地址: 430074湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于微波遥感及探测技术领域,为一种综合孔径辐射计成像校正方法。该方法首先测量背景和通道本底各基线的可见度输出;然后在视场内放置外部源(信号源或者噪声源),测量各基线的可见度输出;将两次测量的可见度按基线相减得到仅由外部源产生的可见度输出;测量被测场景的可见度输出,将得到的输出相位减去由外部源产生的相关输出的相位,得到校正后的可见度,然后反演成像,即可得到校正后被测场景的图像。该校正方法可提高干涉式综合孔径辐射计的成像性能,具有测量简单、不需要转台控制系统的支持、计算量小以及可以周期测量的优点。本发明并不局限于远场测量,仿真和实验均发现近场条件下该校正方法仍然可用。
搜索关键词: 一种 综合 孔径 辐射计 成像 校正 方法
【主权项】:
1、一种综合孔径辐射计成像校正方法,其步骤包括:(1)采用N个天线组成天线阵列,接收场景和目标的微波热辐射信号,得到N路模拟信号,经放大、滤波、下变频和模数转换变换为N路数字复信号xi(t),i=1,2,...,N,其中t为离散时间变量,N为大于1的整数;(2)任意选择其中的两路信号xn(t)、xm(t),1≤n≤N,1≤m≤N,利用公式(I)计算原始可见度Vraw:Vraw=E[xn(t)xm(t)](I)(3)判断场景中是否包含人工目标,如果包含,去除人工目标,按照步骤(1)至(2)的方法,获取没有放置人工目标时的可见度Vb,然后进入步骤(4),否则直接进入步骤(4);(4)利用公式(II)计算仅由自然场景和仅由人工目标产生的可见度V′b(5)在视场内放置信号源/或者噪声源,采用以下步骤测量可见度输出V′raw;(5.1)采用上述天线阵列接收目标的微波热辐射信号得到N路模拟信号,经放大、滤波、下变频和模数转换变换为N路数字复信号yi(t),i=1,2,...,N,其中t为离散时间变量;(5.2)选择其中的两路信号yn(t),ym(t),利用公式(III)计算可见度:V′raw=E[yn(t)ym(t)](III)(6)采用公式(IV)计算得到仅由外部源产生的可见度输出Vcal;Vcal=V′raw-Vb(IV)并得到相位φraw,φraw=∠Vcal;(7)采用公式(V)得到校正后的可见度V2V2=Vb×e-jφraw---(V)]]>其中,e为自然对数,j为虚数单位;(8)反演成像得到下述被测场景的图像T:T=IFFT{V2}其中,IFFT表示反傅立叶变换。
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