[发明专利]一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法及其装置无效

专利信息
申请号: 200810047420.X 申请日: 2008-04-20
公开(公告)号: CN101261116A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 骆清铭;王建岗;曾绍群;肖青 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01N21/45
代理公司: 华中科技大学专利中心 代理人: 曹葆青
地址: 430074湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法及其装置。将宽带光源出射的光通过干涉结构,产生干涉信号,再探测干涉信号的光谱信息,并将光谱信息进行傅立叶变换,即可得到产生干涉信号的二光路的光程差信息。在折射率已知的情况下,以同种方式在一个干涉臂中放置样品后再测一次,比较这两次光程差信息即可薄膜厚度。若折射率未知,需将薄膜旋转一个角度,进行第三次测量来计算出获得薄膜的折射率和厚度。本发明采用光学方法,对样品是无损的,分辨率为微米量级,测量范围可达到毫米量级。另外样品不要求严格贴附在样品台上,同时信息处理方法简单,对于透明或半透明薄膜可以方便实时地得到其厚度和折射率信息。
搜索关键词: 一种 薄膜 厚度 折射率 光学 测量方法 及其 装置
【主权项】:
1、一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法,其步骤包括:(a)将宽带光源出射的光通过分光棱镜分成两束光,然后分别通过一个反射镜反射,再由分光棱镜将反射后的两束光汇聚成一束,形成干涉光路,产生干涉信号,再探测干涉信号的光谱信息,并将光谱信息进行傅立叶变换,得到产生干涉信号的二光路的光程差信息S1;(b)将待测量样品薄膜放置在上述任一反射镜前,重复步骤(a),得到产生干涉信号的二光路的光程差信息S2;(c)当待测量样品的折射率已知时,利用光程差信息S1和S2,得到待测量样品的厚度;当待测量样品的折射率未知时,将待测量样品旋转一个角度后放置到同一反射镜前,再重复步骤(a),得到产生干涉信号的二光路的光程差信息S3;根据光程信息S1、S2和S3,计算获得薄膜的折射率和薄膜厚度。
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