[发明专利]低损耗高频介质陶瓷及其制备方法有效
申请号: | 200810054136.5 | 申请日: | 2008-08-15 |
公开(公告)号: | CN101343179A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
发明(设计)人: | 李玲霞;廖擎玮;张平;王洪茹 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C04B35/462 | 分类号: | C04B35/462;C04B35/622 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人: | 曹玉平 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种低损耗高频介质陶瓷及其制备方法,其组成及摩尔百分比含量为:xCaO-(1-x)ZnO-Nb2O5-ySnO2-(2-y)TiO2,其中0≤x≤0.16,0≤y≤0.1。制备步骤为:(1)配料、球磨;(2)烘干、预烧、合成前驱体;(3)造粒、压制成型(4)烧成。本发明提供了一种制备工艺简单、烧结温度低(1100℃以下)、介电损耗低、介电常数相对较高、同时保持了优异的介电性能的高频介质陶瓷,应用于电子信息材料与元器件领域。 | ||
搜索关键词: | 损耗 高频 介质 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种低损耗高频介质陶瓷,其特征在于,以ZnO-Nb2O5-2TiO2为基料,SnO2和CaO为添加剂,按配方通式:xCaO-(1-x)ZnO-Nb2O5-ySnO2-(2-y)TiO2配料,其中0<x≤0.16,0<y≤0.1。
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