[发明专利]一种青霉素G亚砜复合晶体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200810054515.4 申请日: 2008-02-01
公开(公告)号: CN101239984A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 平志存;王京;温同礼;米振瑞;孙孟生;刘云坡;闫峰;梁雪智;张致一;杨梦德;马金玉;郑宝丽;高俊艳;于辉;刘倩;刘东;甘平娟;段志刚;袁五锁;张锁庆 申请(专利权)人: 华北制药集团有限责任公司
主分类号: C07D499/20 分类号: C07D499/20
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 代理人: 白海静
地址: 050015河北省石家庄市*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种新的青霉素G亚砜复合晶体及其制备方法,该复合晶体的熔点106.9℃,元素含量为C:53.35%、N:7.23%、O:24.9%、H:5.78%、S:8.70%。其方法包括以下步骤:(a)将青霉素G亚砜溶解在甲醇溶液中或含有甲醇的水溶液或含有甲醇的有机溶液中;(b)将上述含有青霉素G亚砜、甲醇的溶液降温,使青霉素G亚砜及甲醇逐步达到饱和或过饱和状态,析出晶体。本发明复合晶体的稳定性好,且在扩环重排反应中可有效提高头孢烷酸的收率和含量。
搜索关键词: 一种 青霉素 亚砜 复合 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种青霉素G亚砜复合晶体,其化学结构式如下:
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