[发明专利]一种电感耦合线圈及采用该耦合线圈的等离子体处理装置有效
| 申请号： | 200810057830.2 | 申请日： | 2008-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN101515498A | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | 韦刚;李东三 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01F5/00 | 分类号： | H01F5/00;H01F38/14;H05H1/46;H05H1/50;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张天舒;陈 源 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合线圈，其包括至少两组直径不同且相互嵌套的线圈绕组，所述线圈绕组中的至少两组线圈绕组的上表面处于不同高度的平面，以便获得分布较为均匀的等离子体。此外，本发明还公开了一种等离子体处理装置，其包括反应腔室，在该反应室的上部设有介电窗，并且在所述介电窗的上方设置有上述电感耦合线圈，所述电感耦合线圈通过射频匹配器与射频电源连接，以便在反应腔室内得到分布均匀的等离子体。本发明提供的电感耦合线圈及等离子体处理装置能够获得分布较为均匀的等离子体，同时能够获得良好的、均匀的加工/处理结果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电感 耦合 线圈 采用 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合线圈，其特征在于，包括至少两组直径不同且相互嵌套的线圈绕组，所述线圈绕组中的至少两组线圈绕组的上表面处于不同高度的平面，以便获得分布均匀的等离子体。
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