[发明专利]一种转光膜母粒及其制备方法无效
| 申请号： | 200810058428.6 | 申请日： | 2008-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN101280063A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 刘东辉 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C08J3/22 | 分类号： | C08J3/22;C08L23/06;C08L23/28;C08K9/04 |
| 代理公司： | 昆明正原专利代理有限责任公司 | 代理人： | 金耀生 |
| 地址： | 650093云南*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明是一种转光膜母粒的制备方法。其特征是：用重量份的500～750市售微米或纳米级稀土转光剂粉、500～1000液态烃液体石腊或液体石腊与氯化石蜡混溶物，快速搅拌下经800～1600w超声波持续处理3～4小时；将处理好的转光剂分散体与500～1000膜高分子材料经25～35分钟的捏合、剪切、混合、混炼和造粒工艺制备成转光母粒。本发明的方法能够制备含微米、纳米级稀土转光剂最高达30％质量百分比的转光母粒，使转光膜(含转光剂0.15－0.35％)生产工艺简单可靠，并可保证配方体系中不含水分，膜中不会出现气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 转光膜母粒 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种转光膜母粒的制备方法，其特征是：用重量份的500～750市售微米或纳米级稀土转光剂粉、500～1000液态烃液体石腊或液体石腊与氯化石腊混溶物，快速搅拌下经800～1600w超声波持续处理3～4小时；将处理好的转光剂分散体与500～1000膜高分子材料经25～35分钟的捏合、剪切、混合、混炼和造粒工艺制备成转光母粒。
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