[发明专利]防静电TFT基板及其加工工艺有效
申请号: | 200810068440.5 | 申请日: | 2008-07-09 |
公开(公告)号: | CN101350366A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 胡安春;温景成;吴永光;董坚 | 申请(专利权)人: | 深圳市力合薄膜科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L27/12;H01L23/60;H01L21/02;H01L21/336;H01L21/84;G02F1/1362;G02F1/1333;C23C14/56;C23C14/54;C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 深圳市中知专利商标代理有限公司 | 代理人: | 吕晓蕾 |
地址: | 518024广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种TFT基板,它属于玻璃技术领域,特别是用于显示器的TFT基板加工技术领域,在TFT基板设置有一具有防静电功能的氧化铟锡膜层;所述的具有防静电功能的氧化铟锡膜层的镀膜材料为氧化铟锡SnO2,其铟锡比例为98∶2,透过率>88%、方阻在600~1200Ω/□之间;所述的具有防静电功能的氧化铟锡膜层膜厚为80±20;方阻在700~1150(Ω/□)之间。本发明采用低温、多靶、隔位溅射方法在TFT基板上镀制的高透过率、高方阻氧化铟锡膜层,即ITO膜,由于ITO膜的电阻值大,使得镀膜后的TFT基板具有良好的防静电功能,因此不容易吸附灰尘,同时防止镀膜时TFT基板的破碎和防止镀膜后TFT基板老化。 | ||
搜索关键词: | 静电 tft 及其 加工 工艺 | ||
【主权项】:
1、一种防静电TFT基板,其特征在于在TFT基板设置有一具有防静电功能的氧化铟锡膜层。
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