[发明专利]脉冲激光扫描直接制备α-FeSi2薄膜的工艺无效
申请号: | 200810068862.2 | 申请日: | 2008-08-12 |
公开(公告)号: | CN101337676A | 公开(公告)日: | 2009-01-07 |
发明(设计)人: | 谢泉;张晋敏;肖清泉;张勇;余平;杨子仪 | 申请(专利权)人: | 贵州大学 |
主分类号: | C01B33/06 | 分类号: | C01B33/06 |
代理公司: | 贵阳东圣专利商标事务有限公司 | 代理人: | 徐逸心 |
地址: | 550025贵州省*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本发明公开了一种脉冲激光扫描直接制备α-FeSi2薄膜的工艺,涉及一种Fe-Si化合物,首先采用磁控溅射方法在Si基片上沉积一层厚度50-100nm的金属Fe膜,随后在空气中采用二极管泵浦激光器(Nd:YAG)产生的脉冲激光进行扫描,直接获得Fe-Si化合物中的高温金属相α-FeSi2薄膜,本工艺加工的α-FeSi2薄膜厚度均匀、面积大,采用脉冲激光扫描直接形成金属相α-FeSi2,在基于β-FeSi2的微电子或光电子器件中作电极和金属连接,不用引入其它材料,使工艺过程大大简化,这对新型环境友好半导体材料β-FeSi2的开发和应用具有重要价值。 | ||
搜索关键词: | 脉冲 激光 扫描 直接 制备 fesi sub 薄膜 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种脉冲激光扫描直接形成α-FeSi2薄膜的制备方法,其特征为首先采用磁控溅射方法在Si基片上沉积一层厚度50-100nm的金属Fe膜,随后在空气中采用二极管泵浦激光器(Nd:YAG)产生的脉冲激光对金属Fe膜进行扫描,直接获得Fe-Si化合物中的高温金属相α-FeSi2薄膜。
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