[发明专利]含应力缓和层的硬质薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200810070037.6 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101323945A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 聂朝胤;田鹏;曲燕青;张碧云 | 申请（专利权）人： | 西南大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24;C23C8/24 |
| 代理公司： | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 | 代理人： | 周韶红 |
| 地址： | 400716*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 含应力缓和层的硬质薄膜及其制备方法，通过在金属氮化物薄膜中，每隔一定间隔加入一定厚度的同样金属层构成的多层结构来降低薄膜的内部应力，防止薄膜从基体脱落。该多层膜是由沉积氮化物和沉积金属层两个过程重复交替进行而成。本发明可以解决传统硬质涂层当其厚度超过10um厚时，由于内部应力过高，而容易从金属基体表面脱落的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 应力 缓和 硬质 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、含应力缓和层的硬质薄膜，其特征在于，在硬质薄膜中间隔含有相同金属的应力缓和层。
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